集成电路/半导体材料
拟转化阶段(详见来源页)
8英寸50mm超厚碳化硅单晶
完成单位:浙江大学杭州国际科创中心
所在地区:浙江省浙江省杭州市
技术亮点与转化解读
创新提出提拉式物理气相传输法(PPVT),动态提拉籽晶及生长晶体,实现8英寸、50mm超厚SiC单晶生长(据中心名录)。 合作方式:技术转让/许可/合作推广(拟转化)
工业化应用场景
功率器件衬底、新能源与高压电力装备。
创新提出提拉式物理气相传输法(PPVT),动态提拉籽晶及生长晶体,实现8英寸、50mm超厚SiC单晶生长(据中心名录)。 合作方式:技术转让/许可/合作推广(拟转化)
功率器件衬底、新能源与高压电力装备。
办厂易技术经纪人对接成果完成单位,协助核实技术参数、洽谈转让/许可/联合开发条件。