集成电路布图设计保护条例

▎ 政策背景《集成电路布图设计保护条例》（国务院令第842号）已于2026年7月10日经国务院第91次常务会议修订通过，自2026年10月15日起施行。该条例是对2001年颁布的原条例（国务院令第300号）的全面修订，旨在强化集成电路领域知识产权保护，支撑国家集成电路产业安全与自主创新战略。

本条例依据《中华人民共和国专利法》《中华人民共和国促进科技成果转化法》《中华人民共和国反垄断法》等上位法制定，由国务院知识产权行政部门负责全国布图设计专有权的登记、管理与监督工作。

▎ 核心内容▎ 保护对象与适用范围

• 集成电路：以半导体材料为基片，集成至少一个有源元件及互连线路，执行电子功能的中间或最终产品；

• 布图设计：上述集成电路中元件与互连线路的三维配置，或为制造该集成电路而准备的三维配置；

• 适用扩展：对集成光子、量子等功能的集成电路布图设计，可依本条例予以保护；

• 权利主体：中国自然人、法人或非法人组织；外国人/外国组织满足以下任一条件即享有专有权：

• 首先在中国境内投入商业利用；

• 其所属国与中国签订布图设计保护协议；

• 其所属国与中国共同参加相关国际条约。

▎ 专有权取得与效力

• 登记生效原则：布图设计专有权自国务院知识产权行政部门登记之日起产生，未经登记不受本条例保护；

• 保护期限：10年，自登记申请日或世界范围内首次商业利用日起计算（以较早者为准）；

• 最长存续期：无论是否登记或商用，自创作完成之日起满15年即终止保护；

• 权利内容：

• 对布图设计全部或任何具有独创性的部分进行复制；

• 将布图设计、含该设计的集成电路或含该集成电路的物品投入商业利用。

▎ 独创性要求

• 受保护布图设计须具备独创性：系创作者自身智力劳动成果，且在创作时非布图设计创作者和集成电路制造者公认的常规设计；

• 由常规设计组成的布图设计，其整体组合须符合独创性要求；

• 本条例不延及思想、处理过程、操作方法或数学概念等抽象内容。

▎ 申报条件▎ 登记申请主体与代理

• 申请人可自行办理，也可委托依法设立的专利代理机构；

• 在中国无经常居所或营业所的外国人/外国组织，必须委托专利代理机构；

• 专利代理机构对未公开内容负有保密责任。

▎ 申请材料要求

• 布图设计登记申请须提交以下材料：

• 布图设计登记申请表；

• 布图设计的复制件或者图样（须清晰显示独创性部分）；

• 独创性声明（须指明独创性设计区域、设计要点及对应功能）；

• 国务院知识产权行政部门规定的其他材料；

• 若布图设计已投入商业利用，须同时提交含该设计的集成电路样品。

▎ 时间限制与程序要求

• 事项：时限要求

• 商业利用后申请登记：首次商业利用之日起2年内，逾期不予登记

• 补正/陈述意见：收到审查通知后，在指定期限内答复，逾期视为撤回

• 复审请求：对驳回决定不服的，可在收到通知之日起3个月内请求复审

• 撤销登记请求：任何人发现登记不符合规定，可向国务院知识产权行政部门提出撤销请求

• 不可抗拒事由导致权利丧失的，可于障碍消除后2个月内且自期限届满起2年内申请恢复；

• 第十七条（保护期）、第二十六条（2年登记宽限期）不适用恢复程序。

▎ 政策影响▎ 权利归属与流转

• 一般原则：专有权属于创作者；

• 职务创作：由法人/非法人组织主持、依其意志创作并承担责任的，该组织为创作者；

• 合作创作：专有权归属由合作者约定；无约定的，由合作者共同享有；

• 委托创作：专有权归属由委托人与受托人约定；无约定的，由受托人享有；

• 职务创作情形下，单位应依《促进科技成果转化法》对符合条件人员给予合理奖励和报酬。

▎ 权利行使与限制

• 转让与许可：

• 转让须订立书面合同，并向国务院知识产权行政部门登记后生效；

• 许可须订立书面合同，并于合同生效之日起3个月内备案；

• 出质须由出质人与质权人共同办理出质登记。

• 共有权利行使：

• 有约定从约定；无约定的，共有人可单独使用或普通许可他人使用，收益须分配；

• 其他方式行使（如独占许可、转让）须全体共有人同意。

▎ 合理使用与强制许可

• 可不经许可、不付费的情形：

• 为个人目的、评价、分析、研究、教学等目的复制；

• 基于前述分析创作出具有独创性的新布图设计；

• 独立创作出相同布图设计并复制或商用。

• 权利用尽：权利人或被许可人将布图设计、含该设计的集成电路或相关物品投放市场后，他人再次商业利用无需许可、不付费。

• 非自愿许可：在以下情形下，国务院知识产权行政部门可给予非自愿许可：

• 国家出现紧急状态或非常情况；

• 为公共利益目的；

• 经法院或反垄断执法机构认定存在垄断行为需补救。

▎ 监管与责任

• 诚实信用原则：申请登记和行使专有权须遵循诚实信用，不得滥用权利损害国家利益、社会公共利益或他人合法权益；

• 垄断规制：滥用布图设计专有权排除、限制竞争的，依照《反垄断法》处理；

• 保密义务：国务院知识产权行政部门工作人员及有关人员对登记中未公开内容负有法定保密责任；

• 虚假申请责任：申请须以真实创作活动为基础，弄虚作假的不予登记并依法追责。