司法部、国家知识产权局负责人就《集成电路布图设计保护条例》修订答记者问

▎ 政策背景党中央和国务院高度重视新兴领域知识产权保护工作。现行《集成电路布图设计保护条例》于2001年公布施行，对保护集成电路布图设计专有权、鼓励集成电路技术创新发挥了积极作用。随着集成电路技术和产业快速发展，为更好满足实践需要，有必要修订该条例。

▎ 核心内容▎ 登记与审查程序优化

• 登记申请须以真实创作活动为基础，严禁弄虚作假

• 新增独创性声明要求，提交的复制件或图样须清楚显示具有独创性的部分

• 明确驳回与撤销机制：申请明显不符合规定的应予驳回；获准登记后发现不符规定的，可请求撤销；撤销后专有权视为自始即不存在

• 权利恢复条款：因不可抗拒事由或其他正当理由延误法定或指定期限导致权利丧失的，可请求恢复权利▎ 专有权保护强化

• 保护范围以登记的复制件或图样为准，独创性声明可用于解释独创性

• 侵权赔偿标准：按权利人实际损失或侵权人获利确定；难以确定时，参照许可使用费倍数合理确定；情节严重的适用惩罚性赔偿▎ 布图设计运用促进

• 公共服务协同机制：国务院知识产权行政部门会同有关部门加强公共服务，促进布图设计运用

• 成果转化激励：法人或非法人组织主持创作的布图设计，应依据《促进科技成果转化法》等，对符合条件人员给予合理奖励和报酬

• 权属流转规范：完善转让、许可、出质相关要求

• 共有权利行使规则：共有人有约定的从其约定；许可使用费应在共有人之间分配▎ 政策影响

• 实施节点：关键事项

• 2026年7月23日：国务院总理李强签署第842号国务院令公布修订后《条例》

• 2026年10月15日：修订后《条例》正式施行

• 法律衔接强化：修订遵循与相关法律法规及国际条约相衔接原则

• 制度升级导向：将实践中行之有效的做法上升为行政法规，提升法治保障效能

• 实施保障安排：国家知识产权局将联合有关部门加大宣传解读、完善配套规章、落实贯彻执行